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       6、人体及衣物的毛屑是一项主要粉尘来源,为此务必严格要求进出使用人员穿戴无尘衣,除了眼睛部位外,均需与外界隔绝接触 (在次微米制程技术的工厂内,工作人员几乎穿戴得像航天员一样。
       7、除了空气外,水的使用也只能限用去离子水 (di water, de-ionized water)。一则防止水中粉粒污染晶圆,二则防止水中重金属离子,如钾、钠离子污染金氧半 (mos) 晶体管结构之带电载子信道 (carrier channel),影响半导体组件的工作特性。去离子水以电阻率 (resistively) 来定义好坏,一般要求至17.5mω-cm以上才算合格;为此需动用多重离子交换树脂、ro逆渗透、与uv紫外线**等重重关卡,才能放行使用。由于去离子水是佳的溶剂与清洁剂,其在半导体工业之使用量惊人!
       8、洁净室所有用得到的气源,包括吹干晶圆及机台空压所需要的,都得使用氮气 (98%),吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮!
       以上八点说明是基本的要求,另还有污水处理、废气排放的环保问题,再需要大笔的建造与维护费用,总而言之,半导体生产行业是高污染行业,要严抓相关企业的污染治理,洁净室的使用在半导体芯片等行业是不可或缺的!

半导体洁净车间


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标签: 半导体芯片净化车间 , 洁净车间环境监测
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